熱電阻蒸發(fā)式真空鍍膜機(jī)
熱電阻蒸發(fā)式真空鍍膜機(jī)
*非標(biāo)定制實(shí)驗(yàn)室設(shè)備
熱電阻蒸發(fā)式真空鍍膜機(jī)，采用熱電阻蒸發(fā)鍍膜，配1~3組電阻蒸發(fā)源，結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)緊湊，性能穩(wěn)定可靠，自動(dòng)化操作界面，操控簡(jiǎn)單方便。廣泛應(yīng)用于科研院所、實(shí)驗(yàn)室制備金屬、導(dǎo)電薄膜、光學(xué)薄膜等，同時(shí)可選配離子源用于離子束清洗及輔助鍍膜能力；選配電子槍，擴(kuò)展沉積薄膜類型應(yīng)用。
特點(diǎn)
一體式系統(tǒng)框架設(shè)計(jì)
前開門真空腔體，方便取放基片、添加蒸發(fā)材料以及真空室的日常維護(hù)；
大口徑擴(kuò)散泵作為主抽泵，真空極限高達(dá)3×10-4Pa；另可選分子泵或者低溫泵作為主抽泵，真空極限≤5×10-5Pa(2×10-8Torr)；
標(biāo)配冷阱，提高成膜質(zhì)量；可選配深冷，縮短抽真空時(shí)間
可選配E型電子槍，4~8個(gè)坩堝
可選配離子源用于離子束清洗及輔助鍍膜能力。
可定制各類基板尺寸，加熱或水冷
采用Inficon膜厚監(jiān)控儀在線監(jiān)測(cè)和控制蒸發(fā)速率、膜厚
可沉積金屬；非金屬；化合物等薄膜材料
應(yīng)用
科研與教學(xué)
主要指標(biāo)
真空室：立式前開門,304不銹鋼；外壁通冷卻水，內(nèi)襯不銹鋼防污板
真空系統(tǒng)：機(jī)械泵+擴(kuò)散泵+冷阱（或分子泵、低溫泵）+（可選加羅茨泵）
極限真空：3.0E-4pa
恢復(fù)真空：大氣至4.0E-3pa≤15min
工作架：Φ640mm帽形工件盤等，扇形，行星，轉(zhuǎn)速可調(diào)
烘烤：上烘烤用進(jìn)口管狀加熱器（下烘烤用碘鎢燈加熱）；溫度350℃，可調(diào)可控
蒸發(fā)源：1~3組的電阻蒸發(fā)源
電子槍：選配電子束蒸發(fā)源，功率6Kv至10Kv
離子源：Φ12cm考夫曼（可選），
工藝氣體配置：1~3只進(jìn)口MFC控制
膜厚控制：光學(xué)膜厚控制儀或光柵單色儀
石英晶控：國(guó)產(chǎn)或進(jìn)口
電源：3相，380V，50Hz，約30K
其他選配：加熱型基臺(tái)、鍍膜機(jī)配套冷水機(jī)
典型應(yīng)用
等離子輔助沉積Ag膜